俄罗斯将开发世界首款无掩模光刻扫描仪

莫斯科电子技术学院将开发“基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模 X 射线光刻机。

莫斯科电子技术学院 (MIET)与工业和贸易部签署了价值 6.7 亿卢布的合同，以开发“基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模 X 射线光刻机。

光掩模的生产复杂且昂贵，而且工艺流程要求的越细致，光掩模的价格就越贵，而且每种产品需要多达几十个。无掩模 X 射线纳米光刻 MOEMS（微光机电系统）将在两个主要领域进行开发：控制 X 射线反射率和控制 X 射线透射率。